Silicio dioksido mažinimo metodas: Tai yra įprastas paruošimo metodas. Silicio ir anglies mažinimo agentas sumažėja aukštos temperatūros krosnyje, kad būtų galima generuoti metalinį silicį.
Sukurtas metalinis silicis yra atvėsinamas, susmulkintas ir sijojamas, kad būtų gautas skirtingo dydžio metaliniai silicio milteliai.
Garų nusėdimo metodas: naudojant cheminio garų nusėdimo (CVD) technologiją, silicio turinčios dujos (pvz., Silanas) suskaidomos aukštoje temperatūroje ir nusėda ant substrato, kad susidarytų metalo silicio milteliai. Šiuo metodu paruošti metaliniai silicio milteliai turi aukštą grynumo ir vienodos dalelių dydį, kuris tinka didelio tikslumo elektroninėms reikmėms.
Plazmos metodas: Naudojant aukštą plazmos aukštos temperatūros ir didelės energijos charakteristikos, silicio šaltinio medžiagos (pvz., Silanu) skiepijamos generuoti metalinius silicio miltelius.Metalo silicio milteliaiParuoštas šiuo metodu, yra didelis grynumas ir didelis aktyvumas, kuris tinka pritaikyti.
Metalo silicio miltelių produkto mėginio paveikslėlis ekranas
